非晶金刚石薄膜的X射线反射研究

被引：2

作者：

韩杰才

檀满林

朱嘉琦

程坤

孟松鹤

机构：

[1] 哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所哈尔滨,哈尔滨,哈尔滨,哈尔滨,哈尔滨

来源：

光学学报 | 2005年 / 04期

关键词：

薄膜光学; 非晶金刚石薄膜; 密度; 衬底偏压; X射线反射;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.4 [薄膜的性质];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

利用过滤阴极真空电弧系统制备了不同衬底偏压下非晶金刚石薄膜,分别采用X射线反射法测定了相应的非晶金刚石膜密度,分析了薄膜密度与沉积能量之间的变化规律,建立了薄膜密度随衬底偏压的变化曲线。研究发现在-80 V时非晶金刚石膜密度存在最大值3.26 g/cm3,随着偏压的增大和减小,薄膜的密度都相应的下降;当衬底偏压加到-2000 V时,密度减小到2.63 g/cm3,相对于密度的最大值变化较小。通过薄膜sp3 能态杂化含量与密度的简单比例关系,近似推算出非晶金刚石膜中sp3 能态的含量最高可达80%以上。

引用

页码：572 / 576

页数：5

共 10 条

[1] 确定薄膜厚度和光学常数的一种新方法 [J].

沈伟东 ;

刘旭 ;

叶辉 ;

顾培夫 .

光学学报, 2004, (07) :885-889

[2] 不同能级加速过滤电弧沉积四面体非晶碳膜的结构和性能 [J].

朱嘉琦 ;

王景贺 ;

孟松鹤 ;

韩杰才 ;

张连生 .

物理学报, 2004, (04) :1150-1156

[3] 一种软X射线多层膜界面粗糙度的计算方法 [J].

冯仕猛 ;

赵海鹰 ;

黄梅珍 ;

范正修 ;

邵建达 ;

窦晓鸣 .

光学学报, 2003, (08) :980-983

[4] 软X光平面镜反射率标定实验 [J].

孙可煦 ;

易荣清 ;

黄天晅 ;

杨家敏 ;

江少恩 ;

崔延莉 ;

丁永坤 ;

张保汉 ;

崔明启 ;

朱佩平 ;

赵屹东 ;

黎刚 .

光学学报, 2002, (03) :379-382

[5]

软X射线与极紫外辐射的原理和应用[M]. 科学出版社 , (美)D.阿特伍德著, 2003

[6]

Diamond-like amorphous carbon[J] . J. Robertson.Materials Science & Engineering R . 2002 (4)

[7] The enhancement of interconnected sp3 sites by chemical effects during ta-C film growth [J].

Neuville, S .

[8]

Etching of DLC films using a low intensity oxygen plasma jet[J] . W.I. Urruchi,M. Massi,H.S. Maciel,C. Otani,L.N. Nishioka.Diamond & Related Materials . 2000 (3)

[9] Heat treatment of tetrahedral amorphous carbon films grown by filtered cathodic vacuum-arc technique [J].

Tay, BK ;

Shi, X ;

Liu, EJ ;

Tan, HS ;

Cheah, LK ;

Milne, WI .

[10]

A simple method and new source for getting diamond-like carbon film and polycrystalline diamond film[J] . Kingsuk Mukhopadhyay,Kalaga Murali Krishna,Maheshwar Sharon.Materials Chemistry and Physics . 1997 (3)

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