用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜

被引：9

作者：

秦俊岭

邵建达

易葵

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所

来源：

强激光与粒子束 | 2007年 / 01期

关键词：

Mo靶; Mo/Si多层膜; 溅射功率; 软X射线; 反射率;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化。随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。研究发现,随着Mo靶溅射功率的增大,Mo/Si多层膜的表面粗糙度增加,Mo的特征X射线衍射峰也增强,Mo/Si多层膜的软X射线峰值反射率先增大后减小。

引用

页码：67 / 70

页数：4

共 6 条

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