利用p型(100)硅片制备二维光子晶体的工艺

被引：6

作者：

张晚云

季家榕

袁晓东

叶卫民

朱志宏

机构：

[1] 国防科技大学光子/声子晶体研究中心

来源：

半导体学报 | 2005年 / 05期

关键词：

大孔硅; 光子晶体; 光子禁带; 制备; 碱性腐蚀; 电化学腐蚀;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN204 [材料和工作物质];

学科分类号：

0805 ; 080501 ; 080502 ;

摘要：

采用电化学腐蚀法并结合光刻、反应离子刻蚀以及碱性腐蚀等技术,在p型(100)硅基底中制备了大深宽比的二维大孔硅光子晶体,其二维周期性结构的晶格常数为3 .8μm,孔隙直径约3 .0μm,孔隙深度超过80μm.在光刻、反应离子刻蚀及碱性腐蚀所刻印的V形尖坑阵列的基础上,采用优化的电化学腐蚀参数能制备出周期性好、深宽比大、表/侧面光滑的高品质光子晶体结构,并从理论上利用数值模拟的方法证明了该样品结构在归一化频率位于0 .1620 .205ωa/(2πc)范围内存在光子带隙.

引用

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