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激光直写光刻中线条轮廓的分析
被引：18
作者：
李凤有
谢永军
孙强
曹召良
卢振武
王肇圻
机构：
[1] 南开大学现代光学研究所
[2] 中科院长春光机所应用光学国家重点实验室
来源：
关键词：
激光直写光刻;
曝光量;
线条轮廓;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN249 [激光的应用];
学科分类号：
摘要：
考虑了光刻胶对光吸收作用 ,在已有描述胶层内光场分布模型的基础上 ,较为准确地推导出光刻胶层内不同深度位置的光场分布 使用迭代方法计算得到了胶层内曝光量空间分布曲线 ,分析了不同曝光量下胶层内的线条轮廓 ,为直写光刻中曝光量的选择提供了依据 实验结果分析与理论分析的结果一致
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