基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法

被引：11

作者：

王磊 ^{[1
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李思坤 ^{[1
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王向朝 ^{[1
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杨朝兴 ^{[1
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机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室

[2] 中国科学院大学

来源：

光学学报 | 2017年 / 37卷 / 10期

基金：

上海市自然科学基金;

关键词：

光学制造; 光刻; 分辨率增强技术; 光源掩模投影物镜联合优化; 粒子群优化;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN405 [制造工艺]; TP18 [人工智能理论];

学科分类号：

080903 ; 1401 ; 081104 ; 0812 ; 0835 ; 1405 ;

摘要：

全芯片多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的重要发展方向。提出了一种基于粒子群优化(PSO)算法的光源掩模投影物镜联合优化(SMPO)方法。将由像素表征的光源、由离散余弦变换基表征的掩模及由泽尼克系数表征的投影物镜编码为粒子,以图形误差作为评价函数,通过不断迭代更新粒子,实现光源掩模投影物镜联合优化。在标称条件和工艺条件下,采用含有交叉门的复杂掩模图形对所提方法的仿真验证表明,图形误差分别降低了94.2%和93.8%,有效提高了光刻成像质量。与基于遗传算法的SMPO方法相比,该方法具有更快的收敛速度。此外,该方法具有优化自由度高和优化后掩模可制造性强的优点。

引用

页码：264 / 275

页数：12

共 6 条

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王磊 ;

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