红外焦平面阵列非均匀性校正技术的最新进展

被引：17

作者：

侯和坤

张新

机构：

[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心

[2] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心吉林长春

[3] 吉林长春

来源：

关键词：

红外焦平面; 代数算法; 干扰抵消原理;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN219 [红外技术的应用];

学科分类号：

0803 ; 080401 ; 080901 ;

摘要：

面列阵红外焦平面探测器的非均匀性校正技术是正在探索的一项关键技术。介绍了近期国内外发展的红外焦平面阵列非均匀性校正技术:基于场景的代数算法、基于干扰抵消原理的自适应校正法和基于低次插值的多点校正法。

引用

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