VHF-PECVD低温制备微晶硅薄膜的拉曼散射光谱和光发射谱研究

被引：22

作者：

张晓丹

赵颖

朱锋

魏长春

吴春亚

高艳涛

侯国付

孙建

耿新华

熊绍珍

机构：

[1] 南开大学光电子所

[2] 南开大学光电子所天津

[3] 天津

来源：

物理学报 | 2005年 / 01期

关键词：

甚高频等离子体增强化学气相沉积; 微晶硅; 拉曼散射谱; 光发射谱;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484 [薄膜物理学];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

采用拉曼散射光谱和PR6 5 0光谱光度计对VHF PECVD制备的微晶硅薄膜进行了结构表征和在线监测研究 .结果表明 :功率对材料的晶化率 ( χc)有一定的调节作用 ,硅烷浓度大 ,微调作用更明显 ;SiH 的强度只能在一定的范围内表征材料的沉积速率 ,功率大相应的速率反而下降 ;I[Hα ] I[SiH ] 强度比值反映了材料晶化程度 ,此结果和拉曼散射光谱测试结果显示出一致性 ;I[Hβ ] I[Hα ] 的强度比表明氢等离子体中的电子温度随功率的增大而逐渐降低 .

引用

页码：445 / 449

页数：5

共 5 条

[1] 热丝化学气相沉积技术低温制备多晶硅薄膜的结构与光电特性 [J].

汪六九 ;

朱美芳 ;

刘丰珍 ;

刘金龙 ;

韩一琴 .

物理学报, 2003, (11) :2934-2938

[2] VHF等离子体光发射谱(OES)的在线监测 [J].

杨恢东 ;

吴春亚 ;

李洪波 ;

麦耀华 ;

朱锋 ;

周祯华 ;

赵颖 ;

耿新华 ;

熊绍珍 .

物理学报, 2003, (09) :2324-2330

[3] 射频辉光放电硅烷等离子体的光发射谱研究 [J].

杨恢东 ;

吴春亚 ;

朱锋 ;

麦耀华 ;

张晓丹 ;

赵颖 ;

耿新华 ;

熊绍珍 .

光电子·激光, 2003, (04) :375-379

[4] 快速热退火和氢等离子体处理对富硅氧化硅薄膜微结构与发光的影响 [J].

王永谦 ;

陈维德 ;

陈长勇 ;

刁宏伟 ;

张世斌 ;

徐艳月 ;

孔光临 ;

廖显伯 .

物理学报, 2002, (07) :1564-1570

[5] 高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究 [J].

郭晓旭 ;

朱美芳 ;

刘金龙 ;

韩一琴 ;

许怀哲 ;

董宝中 ;

生文君 ;

韩和相 .

物理学报, 1998, (09) :135-140

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