激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅及粉体光谱特性研究

被引：7

作者：

王锐

李道火

黄永攀

罗丽明

浦坦

机构：

[1] 中国科学院安徽光学精密机械研究所

[2] 山东道钬纳米技术研究院合肥山东道钬纳米技术研究院

[3] 济南

[4] 合肥山东道钬纳米技术研究院

[5] 合肥

来源：

硅酸盐通报 | 2004年 / 03期

关键词：

LICVD; Si3N4; 双光束激发; 红外吸收光谱; 拉曼光谱;

D O I：

10.16552/j.cnki.issn1001-1625.2004.03.002

中图分类号：

TB383 [特种结构材料];

学科分类号：

070205 ; 080501 ; 1406 ;

摘要：

氮化硅是优良的陶瓷材料,应用广泛。本文研究了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工作原理,提出了减少游离硅的措施,利用双光束激发制备了超微的、非晶纳米氮化硅粉体。实验证明,纳米氮化硅粉体具有一些特殊的物理性能和光谱特性。

引用

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页数：4

共 7 条

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