光学表面中频误差对光刻物镜短程杂散光影响分析

被引:3
作者
杨旺 [1 ,2 ]
黄玮 [1 ]
许伟才 [1 ]
尚红波 [1 ]
机构
[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
[2] 中国科学院大学
关键词
光学设计; 杂散光; 功率谱密度; 公差分析; 光刻物镜;
D O I
暂无
中图分类号
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号
1401 ;
摘要
研究了光学表面中频误差对杂散光的影响规律,提出使用功率谱密度函数描述表面中频误差,并通过该描述方法进行杂散光分析;同时利用等效光瞳空间频率对表面中频误差进行公差分析。利用以上方法,对工作波长为193nm、数值孔径为0.75的光刻物镜进行元件表面中频公差分析,当要求在2~10μm范围内的杂散光强度占比小于0.5%时,中低频等效光瞳空间频率界限为16,中高频等效光瞳空间频率界限为78。当元件表面功率谱曲线指数取1.5时,功率谱密度系数小于0.06的元件表面满足杂散光要求。结果表明该方法可以有效分析光学系统杂散光和元件表面中频公差。
引用
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