纳米压印技术的研究进展

被引：4

作者：

邢飞

廖进昆

杨晓军

唐雄贵

段毅

机构：

[1] 电子科技大学光电信息学院

来源：

激光杂志 | 2013年 / 34卷 / 03期

关键词：

纳米压印光刻; 高分辨率; 高重复性;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

纳米压印技术由于具有操作简单、高分辨率、成本低、重复性高等优点,近年来受到国内外研究机构的高度重视。本文主要介绍了目前主流的几种纳米压印技术,并简要概述了纳米压印技术的研究现状和应用前景。

引用

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页数：3

共 7 条

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