高温超导平面电路光刻工艺

被引：1

作者：

刘娟秀

羊恺

罗正祥

机构：

[1] 电子科技大学微波中心

[2] 电子科技大学微波中心成都

[3] 成都

来源：

关键词：

高温超导; 平面电路; 光刻;

D O I：

10.16711/j.1001-7100.2003.04.010

中图分类号：

O511.9 [];

学科分类号：

070205 ; 080705 ;

摘要：

在研究了传统光刻工艺的基础上 ,针对高温超导平面电路自身对工艺的要求 ,结合高温超导薄膜的特点 ,提出了几点工艺方法上的改进 ,解决了传统光刻工艺中存在的几个问题。实验结果表明 ,这种新的工艺方法不仅增加了高温超导平面电路制备工艺的稳定性 ,而且提高了样品的可重复性。

引用

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