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磁流体辅助抛光工件表面粗糙度研究
被引:26
作者
:
张峰
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心
张峰
张斌智
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心
张斌智
机构
:
[1]
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心
来源
:
光学精密工程
|
2005年
/ 01期
关键词
:
磁流体辅助抛光;
磁流变抛光;
抛光区;
超光滑表面;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TG661 [电加工机床及其加工];
学科分类号
:
摘要
:
给出了磁流体辅助抛光的机理,以及依据Preston方程建立的磁流体辅助抛光的数学模型。并通过实验详细研究了磁流体辅助抛光后工件的抛光区形状,以及抛光区内表面粗糙度情况。最终加工出了表面粗糙度为0.76 nm(rms值)的光学元件,其高频表面粗糙度达到0.471 nm(rms值),满足了对一定短波段光学研究的要求。结果表明:磁流体辅助抛光可以用于对光学元件进行超光滑加工;在磁流体辅助抛光过程中,较大粒度的磁流体抛光液有利于工件表面粗糙度快速降低,较小粒度的磁流体抛光液可以获得更加光滑的光学表面。
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