稀土金属抛光金刚石膜技术

研究开发了一种快速有效地抛光化学气相沉积（ＣＶＤ）金刚石厚膜的技术。该技术利用化学活性很强的稀土金属镧（Ｌａ）与金刚石（碳）的化学反应，在一定的工艺条件下可对金刚石膜进行有效的抛光。抛光速率的高低与抛光温度有关，在温度大于９００℃时抛光效率较高，可达３４μｍ／ｈ，表面粗糙度可从原来的Ｒａ１２μｍ降至Ｒａ１．６μｍ，如用于后续的精抛光，可大大减少抛光的时间和提高抛光效率，使表面十分粗糙的金刚石厚膜的精抛光能得以经济地进行。