微/纳结构三维形貌高精度测试系统

被引：4

作者：

谢勇君 ^{[1
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]}

史铁林 ^{[2
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]}

刘世元 ^{[2
]}

机构：

[1] 暨南大学电气自动化研究所

[2] 华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室

[3] 武汉光电国家实验室(筹)光电材料与微纳制造研究部

来源：

光电工程 | 2010年 / 37卷 / 01期

基金：

国家自然科学基金重点项目; 广东省自然科学基金;

关键词：

微/纳结构; 显微干涉; 偏振技术; 三维形貌;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH741.8 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

为实现微/纳结构三维形貌的高精度测量,提出利用显微干涉技术和偏振技术相结合的方法来研制微/纳结构三维形貌亚纳米级精度测试系统。首先,利用五步相移干涉技术采集5幅带有π/2相移增量的干涉条纹图。然后,通过Hariharan五步相移算法得到包裹相位图。最后,利用分割线相位去包裹算法和相位高度关系转换得到微/纳结构三维形貌。在测试过程中通过偏振片产生强度可调的线偏振光,再由1/2波片改变偏振光在分光镜中的分光比,补偿参考镜与试件的反射性能差异,可得到亮度适中且对比度高的干涉条纹图,从而有利于实现微/纳结构三维形貌的高精度测量。系统的轮廓算术平均偏差Ra的重复测量精度可达0.06nm,最大示值误差不到±1%,示值变动性不到0.5%。通过对标准多刻线样板、硅微麦克风膜和硅微陀螺仪折叠梁的三维形貌测量验证了系统的有效性和实用性。

引用

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页数：6

共 8 条

[1]

表面微观形貌测量中相移干涉术的算法与实验研究.[D].惠梅.中国科学院西安光学精密机械研究所.2001, 01

[2] 基于白光干涉测量技术的微器件三维形貌重构 [J].