用于光刻机照明均匀化的微柱面镜阵列设计

被引：18

作者：

肖艳芬 ^{[1
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朱菁 ^{[1
]}

杨宝喜 ^{[1
]}

胡中华 ^{[1
,2
]}

曾爱军 ^{[1
]}

黄惠杰 ^{[1
]}

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所

[2] 中国科学院大学

来源：

中国激光 | 2013年 / 40卷 / 02期

关键词：

几何光学; 微柱面镜阵列; 光学设计; 照明均匀性;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH74 [光学仪器];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

均匀照明是投影光刻机中实现光刻线条高度均一性的重要条件。采用微透镜阵列作为照明匀光器件,能够在实现矩形照明光斑的同时获得极高的远场分布均匀性。基于微透镜阵列现有的加工工艺,设计出二维方向分开的柱面微透镜阵列,并通过优化设计,克服了微透镜之间的接缝在远场光场处产生的中心亮线。仿真分析表明,所设计的微透镜阵列的远场分布不均匀性达到0.85%。

引用

页码：248 / 253

页数：6

共 6 条

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