低温等离子体技术制备有机薄膜的研究进展

被引：2

作者：

杨隽

汪建华

机构：

[1] 中国科学院等离子体物理研究所

[2] 武汉化工学院材料科学与工程学院安徽合肥武汉化工学院材料科学与工程学院湖北武汉

[3] 湖北武汉

来源：

表面技术 | 2004年 / 06期

关键词：

低温等离子体; 有机薄膜; 表面性质; 应用;

D O I：

10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2004.06.001

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

概述了利用低温等离子体技术制备有机薄膜的主要方法、特性、应用及研究现状,简要讨论了等离子体工艺条件对薄膜结构和性质的影响,介绍了现代分析技术对有机薄膜结构的表征,阐述了近年来对低温等离子体有机薄膜物理和化学性质,包括表面性质,渗透性,电学和光学性质等方面的研究新进展,并描述了其在工业生产上的一些应用。

引用

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共 7 条

[1] 射频等离子体自偏压及其对聚合成膜的影响 [J].