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高温正向大电流下TiAl、TiPtAu栅GaAs MESFET的栅退化机理及其对器件特性的影响
被引:3
作者
:
黄云
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0
机构:
信息产业电子第五研究所
黄云
费庆宇
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机构:
信息产业电子第五研究所
费庆宇
机构
:
[1]
信息产业电子第五研究所
[2]
信息产业电子第五研究所 广东 广州
[3]
广东 广州
来源
:
电子产品可靠性与环境试验
|
2000年
/ 06期
关键词
:
砷化镓金属半导体场效应晶体管;
栅并联电阻;
退化;
失效;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN386.1 [金属-氧化物-半导体(MOS)器件];
学科分类号
:
0805 ;
080501 ;
080502 ;
080903 ;
摘要
:
针对GaAs MESFET在微波频率的应用中的射频过驱动导致高栅电流密度现象,设计了Tial栅和TiPtAu栅GaAs MESFET的高温正向大电流试验,通过对试验数据和试验样品的扫描电镜静态电压衬度像以及试验中的失效样品进行分析,确定了栅寄生并联电阻的退化是导致器件的跨导gm、栅反向漏电流Is、夹断电压Vp等特性退化,甚至导致器件烧毁失效的主要原因。
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页数:5
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