脉冲激光沉积法制备氧化锌薄膜

被引：19

作者：

刘耀东 ^{[1
]}

赵磊 ^{[2
]}

机构：

[1] 长春工业大学材料科学与工程学院

[2] 吉林大学汽车材料教育部重点实验室

来源：

中国激光 | 2007年 / 04期

关键词：

薄膜; ZnO薄膜; 紫外受激发射; 脉冲激光沉积;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

摘要：

ZnO是一种新型的Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,具有优良的晶格、光学和电学性能,其显著的特点是在紫外波段存在受激发射。利用脉冲激光沉积法(PLD)在氧气氛中烧蚀锌靶制备了纳米晶氧化锌薄膜,衬底为石英玻璃,晶粒尺寸约为28-35 nm。X射线衍射(XRD)结果和光致发光(PL)光谱的测量表明,当衬底温度在100-250℃范围内时,所获得的ZnO薄膜具有c轴的择优取向,所有样品的强紫外发射中心均在378-385 nm范围内,深能级发射中心约518-558 nm,衬底温度为200℃时,得到了单一的紫外光发射(没有深能级发光)。这归因于其较高的结晶质量。

引用

页码：534 / 537

页数：4

共 6 条

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