基于光谱椭偏仪的纳米光栅无损检测

被引：4

作者：

马智超 ^{[1
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徐智谋 ^{[1
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彭静 ^{[2
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孙堂友 ^{[1
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陈修国 ^{[3
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赵文宁 ^{[1
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刘思思 ^{[1
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武兴会 ^{[1
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邹超 ^{[1
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刘世元 ^{[3
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机构：

[1] 华中科技大学光学与电子信息学院

[2] 武汉科技大学理学院

[3] 华中科技大学数学制造装备与技术国家重点实验室

来源：

物理学报 | 2014年 / 63卷 / 03期

关键词：

纳米压印; 光栅; 无损检测; 拟合;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH744 [物理光学仪器];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

本文制备了硅基和光刻胶两种材料的纳米光栅,利用光谱椭偏仪对该纳米结构的光栅进行了测量,随后利用建立的拟合模型对其测量数据进行了拟合,结果证明了运用该仪器进行纳米光栅结构无损检测的可行性,在入射角60?,方位角75?的测量条件下,纳米结构关键尺寸、侧壁角等三维形貌参数的测量精度最大可达99.97%,该技术对于无损检测有着一定的推动意义.

引用

页码：490 / 494

页数：5

共 9 条

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