镁合金微弧氧化陶瓷层的生长过程及其耐蚀性

被引：33

作者：

蒋百灵

张先锋

机构：

[1] 西安理工大学材料科学与工程学院

[2] 西安理工大学材料科学与工程学院西安

[3] 西安

来源：

中国腐蚀与防护学报 | 2005年 / 02期

关键词：

镁合金; 微弧氧化; 陶瓷层; 耐蚀性;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG174.4 [金属表面防护技术];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

利用扫描电镜(SEM)和盐雾腐蚀试验等手段,研究了镁合金微弧氧化陶瓷层不同生长阶段的形貌特征及耐蚀性.结果表明:整个过程可分为三个阶段,即阳极沉积阶段、微弧阶段和局部弧光阶段.阳极沉积阶段是在阳极表面发生团絮氧化膜沉积与扩展的过程;微弧阶段是前期缺陷减少与消失并形成均匀膜层的过程,陶瓷层表面微孔孔径较小,膜层均匀致密;局部弧光阶段形成的放电微孔孔径较大,陶瓷层比较疏松.陶瓷层的耐蚀性则表现出先增后减的变化趋势.在微弧氧化处理8min～12min时,陶瓷层的耐蚀性最好.通过控制陶瓷层不同生长时期的能量分配,尽量延长陶瓷层的均匀生长过程,可以获得到均匀致密的陶瓷层

引用

页码：97 / 101

页数：5

共 6 条

[1] 微弧氧化陶瓷膜的性能研究 [J].