Iron diffusivity in silicon: Impact of charge state - Comment

被引：8

作者：

Heiser, T

Mesli, A

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1996年 / 68卷 / 13期

关键词：

D O I：

10.1063/1.116040

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1868 / 1869

页数：2

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