A three-region model for the high n-type conductivity in InN, including contributions from the bulk, surface and buffer layer interface of the sample, is considered. In particular, a parallel conduction analysis is used to show that this model can account for the carrier concentration and mobility variation with film thickness that has previously been determined from single-field Hall effect measurements. Microscopic origins for the donors in each region are considered, and the overriding tendency towards n-type conductivity is discussed in terms of the bulk band structure of InN.
ISOM-Departamento Ingeniería Electrónica, ETSI Telecomunicación, Universidad Polit´cnica, 28040 Madrid, Spain
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ISOM-Departamento Ingeniería Electrónica, ETSI Telecomunicación, Universidad Polit́cnicaISOM-Departamento Ingeniería Electrónica, ETSI Telecomunicación, Universidad Polit́cnica
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不详
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Institute of Micro- and Nanotechnologies, TU Ilmenau, 98684 IlmenauISOM-Departamento Ingeniería Electrónica, ETSI Telecomunicación, Universidad Polit́cnica
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Institute of Micro- and Nanotechnologies, TU Ilmenau, 98684 IlmenauISOM-Departamento Ingeniería Electrónica, ETSI Telecomunicación, Universidad Polit́cnica