STUDY OF THE RAPID THERMAL NITRIDATION AND SILICIDATION OF TI USING ELASTIC RECOIL DETECTION .2. TI ON SIO2

被引：32

作者：

KROOSHOF, GJP ^{[1
]}

HABRAKEN, FHPM ^{[1
]}

VANDERWEG, WF ^{[1
]}

VANDENHOVE, L ^{[1
]}

MAEX, K ^{[1
]}

DEKEERSMAECKER, RF ^{[1
]}

机构：

[1] INTERUNIV MICROELECTR CTR,B-3030 LEUVEN,BELGIUM

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.340411

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：5110 / 5114

页数：5

共 8 条

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VANDENHOVE L, UNPUB