FABRICATION AND THERMAL-STABILITY OF W-SI OHMIC CONTACTS

被引：20

作者：

KUMAR, V ^{[1
]}

机构：

[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2132801

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：262 / 269

页数：8

共 21 条

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