THE EFFECT OF ACCELERATION VOLTAGE ON LINEWIDTH CONTROL WITH A VARIABLE-SHAPED ELECTRON-BEAM SYSTEM

被引：28

作者：

MURAI, F ^{[1
]}

OKAZAKI, S ^{[1
]}

SAITO, N ^{[1
]}

DAN, M ^{[1
]}

机构：

[1] HITACHI LTD,MUSASHI WORKS,KODAIRA,TOKYO 187,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1987年 / 5卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583605

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：105 / 109

页数：5

共 6 条

EVERHART, TE ;

HOFF, PH .

KYSER, DF ;

TING, CH .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (06) :1759-1763

[3]

MURAI F, 1981, P IEEE INT ELECTRON, P558

PARIKH, M ;

KYSER, DF .

SAITOU, N ;

OKAZAKI, S ;

MURAI, F ;

OZASA, S ;

KONISHI, T .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1986, 4 (01) :265-268

[6]

SHIRAISHI H, 1984, ACS SYM SER, V242, P167