SELECTIVE DEPOSITION OF THIN-FILMS BY SUBSTRATE ARGON ION-BOMBARDMENT

被引：2

作者：

NENDER, C

BERG, S

GELIN, B

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(88)90179-4

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：475 / 480

页数：6

共 4 条

[1] ION ASSISTED SELECTIVE THIN-FILM DEPOSITION [J].

BERG, S ;

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