SELECTIVE DEPOSITION OF TI - AN INTERFACE STUDY

被引：3

作者：

NENDER, C

BERG, S

GELIN, B

STRIDH, B

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1987年 / 5卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.574557

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1703 / 1707

页数：5

共 5 条

BERG, S ;

GELIN, B ;

SVARDSTROM, A ;

BABULANAM, SM .

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BERG, S ;

NENDER, C ;

GELIN, B ;

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