REDUCED PRESSURE SILICON EPITAXY - A REVIEW

被引:13
作者
CULLEN, GW
CORBOY, JF
机构
关键词
D O I
10.1016/0022-0248(84)90271-9
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
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页码:230 / 252
页数:23
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共 41 条
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WEEKS SP, 1981, SOLID STATE TECHNOL, P111