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REDUCED PRESSURE SILICON EPITAXY - A REVIEW
被引:13
作者
:
CULLEN, GW
论文数:
0
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0
h-index:
0
CULLEN, GW
CORBOY, JF
论文数:
0
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0
CORBOY, JF
机构
:
来源
:
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH
|
1984年
/ 70卷
/ 1-2期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0022-0248(84)90271-9
中图分类号
:
O7 [晶体学];
学科分类号
:
0702 ;
070205 ;
0703 ;
080501 ;
摘要
:
引用
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页数:23
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