SOLID-PHASE EPITAXY OF NISI2 LAYER ON SI(111) SUBSTRATE FROM SI/NI MULTILAYER STRUCTURE PREPARED BY MOLECULAR-BEAM DEPOSITION

被引：11

作者：

ISHIZAKA, A

SHIRAKI, Y

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0039-6028(86)90490-5

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：671 / 677

页数：7

共 5 条

BEAN, JC ;

POATE, JM .

[2]

Ishizaka A., 1982, Molecular Beam Epitaxy and Clean Surface Techniques. Collected Papers of 2nd International Symposium, P183

ISHIZAKA, A ;

SHIRAKI, Y .

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 1984, 23 (07) :L499-L501

ISHIZAKA, A ;

SHIRAKI, Y .

[5]

Tu K. N., 1978, Thin films. Interdiffusion and reactions, P359