FORMATION OF EMBEDDED MONOCRYSTALLINE NISI2 GRID LAYERS IN SILICON BY MBE

被引:24
作者
ISHIZAKA, A
SHIRAKI, Y
机构
来源
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1984年 / 23卷 / 07期
关键词
D O I
10.1143/JJAP.23.L499
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:L499 / L501
页数:3
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