ELLIPSOMETRIC ANALYSIS OF THIN SILICON DIOXIDE LAYERS

被引：3

作者：

GED, P

VAREILLE, A

BOIS, D

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(82)90255-3

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：327 / 334

页数：8

共 10 条

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