DOPING PROFILE MEASUREMENTS FROM AVALANCHE SPACE-CHARGE RESISTANCE - NEW TECHNIQUE

被引：8

作者：

GLOVER, GH ^{[1
]}

TANTRAPORN, W ^{[1
]}

机构：

[1] GE,RES & DEV CTR,SCHENECTADY,NY 12301

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.321605

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：867 / 874

页数：8

共 14 条

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