VERY LOW-PRESSURE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION PROCESS FOR SELECTIVE TITANIUM SILICIDE FILMS

被引：20

作者：

ILDEREM, V

REIF, R

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.99851

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：687 / 689

页数：3

共 8 条

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