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DEPENDENCE OF HOLE TRANSPORT ON GA DOPING IN SI MOLECULAR-BEAM EPITAXY LAYERS
被引:22
作者
:
CASEL, A
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CASEL, A
JORKE, H
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JORKE, H
KASPER, E
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KASPER, E
KIBBEL, H
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KIBBEL, H
机构
:
来源
:
APPLIED PHYSICS LETTERS
|
1986年
/ 48卷
/ 14期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.96659
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
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