NEW AND SIMPLE MOCVD TECHNIQUE USING COMPLETELY GASEOUS MO-SOURCES ESPECIALLY USEFUL FOR GROWING ZN-CHALCOGENIDE FILMS

被引：23

作者：

YOSHIKAWA, A

YAMAGA, S

TANAKA, K

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1984年 / 23卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.23.L388

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L388 / L390

页数：3

共 6 条

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