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INFLUENCE OF N+-LAYER-GATE GAP ON SHORT-CHANNEL EFFECTS OF GAAS SELF-ALIGNED MESFETS (SAINT)
被引:18
作者
:
KATO, N
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KATO, N
MATSUOKA, Y
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MATSUOKA, Y
OHWADA, K
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OHWADA, K
MORIYA, S
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MORIYA, S
机构
:
来源
:
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS
|
1983年
/ 4卷
/ 11期
关键词
:
D O I
:
10.1109/EDL.1983.25785
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:417 / 419
页数:3
相关论文
共 5 条
[1]
MATSUOKA Y, UNPUB
[2]
SZE SM, 1981, PHYSICS SEMICONDUCTO, P470
[3]
Yamasaki K., 1982, International Electron Devices Meeting. Technical Digest, P166
[4]
BELOW 20 PS GATE OPERATION WITH GAAS SAINT FETS AT ROOM-TEMPERATURE
YAMASAKI, K
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[J].
ELECTRONICS LETTERS,
1982,
18
(14)
: 592
-
593
[5]
GAAS LSI-DIRECTED MESFETS WITH SELF-ALIGNED IMPLANTATION FOR N+-LAYER TECHNOLOGY (SAINT)
YAMASAKI, K
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共 5 条
[1]
MATSUOKA Y, UNPUB
[2]
SZE SM, 1981, PHYSICS SEMICONDUCTO, P470
[3]
Yamasaki K., 1982, International Electron Devices Meeting. Technical Digest, P166
[4]
BELOW 20 PS GATE OPERATION WITH GAAS SAINT FETS AT ROOM-TEMPERATURE
YAMASAKI, K
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KURUMADA, K
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[J].
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1982,
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[5]
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YAMASAKI, K
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1982,
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