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EFFECTS OF HEAT TREATMENT ON THERMALLY OXIDIZED SILICON
被引:6
作者
:
ICHINOHE, E
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ICHINOHE, E
KUBO, S
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KUBO, S
AKIYAMA, K
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AKIYAMA, K
机构
:
来源
:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1966年
/ 5卷
/ 05期
关键词
:
D O I
:
10.1143/JJAP.5.454
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:454 / &
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