COMPARATIVE PHOTOEMISSION-STUDY OF THE ADSORPTION OF NO2, N2O, AND NH3 ON ALPHA-SI SURFACES AT LOW-TEMPERATURE

被引:14
作者
BISCHOFF, JL
KUBLER, L
BOLMONT, D
机构
来源
PHYSICAL REVIEW B | 1989年 / 39卷 / 06期
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.39.3653
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页码:3653 / 3658
页数:6
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