LOW-TEMPERATURE NITRIDATION AND HYDROGENATION OF SI FILMS WITH NH3 - A PHOTOEMISSION-STUDY

被引:15
作者
BISCHOFF, JL
KUBLER, L
BOLMONT, D
机构
关键词
D O I
10.1016/0022-3093(87)90337-1
中图分类号
TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
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页码:1407 / 1410
页数:4
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