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MODELING OF LOW-PRESSURE CVD PROCESSES
被引:64
作者
:
KUIPER, AET
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KUIPER, AET
VANDENBREKEL, CJH
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VANDENBREKEL, CJH
DEGROOT, J
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DEGROOT, J
VELTKAMP, GW
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VELTKAMP, GW
机构
:
来源
:
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
|
1982年
/ 129卷
/ 10期
关键词
:
D O I
:
10.1149/1.2123495
中图分类号
:
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
:
081704 ;
摘要
:
引用
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页码:2288 / 2291
页数:4
相关论文
共 4 条
[1]
MODELING OF LOW-PRESSURE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION
CHARLIER, JP
论文数:
0
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0
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0
CHARLIER, JP
[J].
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES,
1981,
28
(05)
: 501
-
504
[2]
CLAASSEN WAP, J CRYST GROWTH
[3]
O'Malley R.E., 1974, INTRO SINGULAR PERTU
[4]
LOW-PRESSURE DEPOSITION OF POLYCRYSTALLINE SILICON FROM SILANE
VANDENBREKEL, CHJ
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VANDENBREKEL, CHJ
BOLLEN, LJM
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BOLLEN, LJM
[J].
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH,
1981,
54
(02)
: 310
-
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共 4 条
[1]
MODELING OF LOW-PRESSURE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION
CHARLIER, JP
论文数:
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0
CHARLIER, JP
[J].
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES,
1981,
28
(05)
: 501
-
504
[2]
CLAASSEN WAP, J CRYST GROWTH
[3]
O'Malley R.E., 1974, INTRO SINGULAR PERTU
[4]
LOW-PRESSURE DEPOSITION OF POLYCRYSTALLINE SILICON FROM SILANE
VANDENBREKEL, CHJ
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VANDENBREKEL, CHJ
BOLLEN, LJM
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BOLLEN, LJM
[J].
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH,
1981,
54
(02)
: 310
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