EVALUATION OF III-V-SEMICONDUCTOR WAFERS USING NONDESTRUCTIVE ORGANIC-ON-INORGANIC CONTACT BARRIERS

被引:12
作者
FORREST, SR
KAPLAN, ML
SCHMIDT, PH
GATES, JV
机构
关键词
D O I
10.1063/1.335226
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:2892 / 2895
页数:4
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