EFFECT OF ELECTRICAL-CONDUCTIVITY OF SUBSTRATE ON RF-SPUTTER-DEPOSITION OF MU-C-SI-H AT - 180-DEGREES-C

被引：4

作者：

HASHIMOTO, S ^{[1
]}

MIYASATO, T ^{[1
]}

HIRAKI, A ^{[1
]}

机构：

[1] OSAKA UNIV,INST SCI & IND RES,IBARAKI,OSAKA 567,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1983年 / 22卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.22.L748

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L748 / L750

页数：3

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共 2 条

HIRAKI, A ;

IMURA, T ;

MOGI, K ;

TASHIRO, M .

JOURNAL DE PHYSIQUE, 1981, 42 (NC4) :277-280

MIYASATO, T ;

ABE, Y ;

TOKUMURA, M ;

IMURA, T ;

HIRAKI, A .

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 1983, 22 (09) :L580-L582