PREPARATION OF X-RAY-LITHOGRAPHY MASKS USING A TUNGSTEN REACTIVE ION ETCHING PROCESS

被引：8

作者：

RANDALL, JN ^{[1
]}

WOLFE, JC ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV HOUSTON,DEPT ELECT ENGN,HOUSTON,TX 77004

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.93483

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：247 / 248

页数：2

共 5 条

[1]

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