DIAGNOSTICS AND MODELING OF A METHANE PLASMA USED IN THE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF AMORPHOUS-CARBON FILMS

被引:218
作者
TACHIBANA, K
NISHIDA, M
HARIMA, H
URANO, Y
机构
关键词
D O I
10.1088/0022-3727/17/8/026
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1727 / 1742
页数:16
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