HIGH-RESOLUTION DOUBLE-LAYER RESIST SYSTEM USING NEW SILICONE BASED NEGATIVE RESIST (SNR)

被引：19

作者：

MORITA, M

TANAKA, A

IMAMURA, S

TAMAMURA, T

KOGURE, O

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1983年 / 22卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.22.L659

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L659 / L660

页数：2

共 5 条

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