HIGH-RESOLUTION, STEEP PROFILE RESIST PATTERNS

被引：202

作者：

MORAN, JM

MAYDAN, D

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1979年 / 16卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570256

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1620 / 1624

页数：5

共 7 条

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