IMPULSE PHOTOCONDUCTANCE OF THIN-FILM POLYCRYSTALLINE SILICON

被引:4
作者
HAMMOND, RB [1 ]
JOHNSON, NM [1 ]
机构
[1] XEROX CORP,PALO ALTO RES CTR,PALO ALTO,CA 94304
关键词
D O I
10.1063/1.336895
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:3155 / 3159
页数:5
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