TETRAHEDRAL-SITE VS HEXAGONAL-SITE SELF-INTERSTITIAL IN SILICON

被引:4
作者
BOGUSLAWSKI, P
PAPP, G
BALDERESCHI, A
机构
[1] UNIV TRIESTE,INST PHYS APPL,I-34127 TRIESTE,ITALY
[2] INT SCH ADV STUDIES,TRIESTE,ITALY
关键词
D O I
10.1016/0038-1098(84)90617-3
中图分类号
O469 [凝聚态物理学];
学科分类号
070205 ;
摘要
引用
收藏
页码:155 / 158
页数:4
相关论文
共 20 条