INSITU INVESTIGATION OF TIN FORMATION ON TOP OF TISI2

被引:55
作者
WILLEMSEN, MFC
KUIPER, AET
READER, AH
HOKKE, R
BARBOUR, JC
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.584052
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:53 / 61
页数:9
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