PREPARATION OF A-SI-H FILMS RESISTIVE TO THE STAEBLER-WRONSKI EFFECT

被引:5
作者
YAMAZAKI, M [1 ]
OHAGI, H [1 ]
NAKATA, J [1 ]
IMAO, S [1 ]
SHIRAFUJI, J [1 ]
FUJIBAYASHI, K [1 ]
INUISHI, Y [1 ]
机构
[1] OSAKA UNIV, FAC ENGN, DEPT ELECT ENGN, SUITA, OSAKA 565, JAPAN
来源
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1988年 / 27卷 / 09期
关键词
D O I
10.1143/JJAP.27.L1739
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
收藏
页码:L1739 / L1741
页数:3
相关论文
共 11 条